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使用特点:1、用于多层镍系统中的半光亮与光亮镍层之间的冲击镍电镀。
2、镀层含硫量可达0.1~0.3%
3、化学稳定性好,分解产物少。
4、与半光亮镍层之间的电位差可达160~180mv以上。
使用说明:硫酸镍:250~300克/升
氯化镍:35~45克/升
硼酸: 40~50克/升
DN-66A开缸剂:10毫升/升
DN-02湿润剂:1~3毫升/升
PH:2~4.5成
温度: 50~65度
消耗量:DN-66B添加剂:200~250毫升/KAH
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