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一、用途
1 用于电镀铜、镍、铬、锌、锡、银、金、合金等。
2 用于铝、钛等制品的阳级氧化,电解精炼,电解除油等。
3 用于其它需要直流电源的场所。
二、特点
设备由单相或三相变压器、晶闸管全控或半控桥、闭环控制触发板等构成,具有以下特点:
1 数字触发脉冲对称度高,抗干扰性强,调试简单。
2 可选择稳压稳流功能转换。
3 设计了双并联PI调节器,电源的稳压稳流性能大大提高。
4 KDF系列增加时控功能,可准确记录所镀工件的实际受镀时间 。
5 设备具有过流,短路等保护功能 。
6 体积比传统硅整流电源大大减小。
三、技术参数及规格
KD-10 | KD-20 | KDF-50 | KDF-100 | KDF-200 | KDF-300 | KDF-500 | KDF-1000 | ||
输入(V) | 220 | 220 | 220 | 220 | 380 | 380 | 380 | 380 | |
输 出 |
电压 (V) | 0-12 | 0-12 | 0-12 | 0-12 | 0-12 | 0-12 | 0-12 | 0-12 |
电流 (A) | 0-10 | 0-20 | 0-50 | 0-100 | 0-200 | 0-300 | 0-500 | 0-1000 |
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