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兴茂TS-60功能性快速镀铬添加剂属于世界最新一代镀铬催化剂及工艺,也是国内乃至国际的新型镀铬添加剂,它克服了硫酸催化剂、稀土催化剂、氟化物催化剂的许多不足之处,不断完善的工艺技术,多年的经验积累,使镀铬工艺达到了新的高度。该工艺适合于镀硬铬、微裂纹铬,装饰铬等。广泛应用在结晶器铜管镀铬,缸套镀铬,活塞杆镀铬,减震器镀铬,造纸机烘缸,石油机械,石油泵筒,模具行业等。在增加电流效益减少镀铬时间,提高镀层亮度及硬度等方面效果显著,有力的降低了镀铬行业生产成本,节约了劳动时间
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一、主要特点
1、阴极电流效率高达35-45%。沉积速度快,大约可节约40%—50%的电费。
2、不含氟、无稀土、无磺酸,无阴极低电流区腐蚀。
3、不会猛烈侵蚀铅锡阳极,无需使用特殊阳极材料。(因加入阳极腐蚀抑制剂)
4、光洁度好,高均镀能力。高分散能力,方形件内口四角可均匀镀铬。角部镀层后度接近面厚度。
5、镀层硬度高,可达HV1000-1200以上。
6、能产生微裂纹,微裂纹数可达800-1600条/厘米(根据需要调节),提高抗腐蚀能力。活塞杆耐盐雾可达192小时以上。减震器杆耐盐雾192小时以上。
7、电流密度范围宽,可使用高达90安培/平方分米以上。按高电流电流效率可达45%,镀速提高1.2倍。
8、镀层与基体结合力极佳,即使是细小部分,铬层也不会脱落。真正达到镀铬层即硬度高,又润性好,极抗磨。
9、摩擦系数小,耐磨性是普通镀铬液的三倍。提高过钢量,比普通添加剂提高2000吨。
二、沉积速度
沉积速度比普通镀铬快1.5~2倍(普通镀铬电流效率只有13%左右)
阴极电流密度 单面沉积速度 阴极电流效率
(A/dm) (um/hour) (≈%)
30 25~30 19~22
40 37~41 20~23
50 45~54 21~24
60 60~70 22~25
70 72~85 23~26
80 85~98 24~27
三、工艺规范
工艺参数 允许范围 理想范围
铬酐 150~300g/L 200~250g/L
硫酸 1.5~3g/L 2.0~2.5g/L
三价铬 1~8g/L 2~4g/L
TS-60添加剂 15~30g/L 20~25g/L
金属杂质 0~15 g/L
工艺温度 50~65 ℃ 55~60 ℃
阴极电流密度 20~90A/dm 50~65A/dm
阳极电流密度 10~45A/dm 20~35A/dm
—— 注:建议阳极采用PbSn合金或PbSb合金
四、使用与维护
⑴ 新配制镀槽
a) 在无油无脏物的清洁镀铬槽中,约加入镀铬槽理论容积的2/3的纯水,并加温至50~55℃;
b) 将计算量的铬酐预先溶解后(如铬酐质量较差,则建议将沉渣滤掉),在搅拌的情况下加入至上述镀铬槽中;
c) 搅拌均匀,补充纯水至接近镀铬槽液面;
d) 取样分析镀铬液中组份,并补加相应的硫酸至工艺规定的量(硫酸稀释至50%后,在搅拌的情况下加入槽中);
e) 加入工艺规定量的TS-60于镀铬液中,如镀铬液中三价铬小于1.5g/l,则可加入草酸或酒精(1g/l草酸生成0.4g/l三价铬,1ml/l酒精可以生成1.78g/l三价铬);
f) 加温至工作温度,并适当电解(1小时),以活化阳极和镀铬液;
g) 开始正常镀铬
⑵ 老镀槽转化
a) 如果老镀铬槽液中不含稀土,而且镀铬质量正常的情况下即可转化;
a) 分析老镀铬槽液中铬酐、硫酸和三价铬的含量,并调整至TS-60工艺要求之范围;
b) 在搅拌状态下加入TS-60添加剂于镀铬液中即可正常生产;
c) 以上转化速度快,对正常生产无影响。
⑶ 操作要求
a) 铬酐和添加剂尽量勤加少加,并通过化验控制在工艺范围内;
b) 根据工件大小调整阴阳极面积,以保证电流的均匀分布和溶液中三价铬的稳定;
c) 添加剂补加量为铬酐补加量的2~3%(w/w);
d) 严格控制工艺电流,保证仪表的准确,电源的纹波系数不要大于5%;
e) 镀铬液尽量采用自动温度控制,使温度维持在工艺规定的范围内;
f) 过量的硫酸根,按2.5:1的比例加入碳酸钡,加入时必须在强烈搅拌下进行。
⑷ 常见故障及处理方法
与普通镀铬基本相同
五、技术服务
免费提供专家级的技术支持,并进行跟踪服务。
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