4 结论
(1)在氟硼酸盐体系中，各工艺参数对电沉积因瓦合金镀层中铁含量的影响差异比较明显，尤其是阴极旋转速率，说明铁的电沉积受扩散的影响较大：而在实验条件范围内，阴极电流效率的变化幅度基本稳定在士4％。
(2)确定了制备因瓦合金箔的最佳工艺参数为：c(Fe2+)=0．15 mol／L，v(阴极旋转)=600～900 r／min，PH=2．5～3．0，θ=45～55℃，Jk=18～25 A／dm2。
(3)在最佳工艺条件下得到了平整光亮、致密、柔韧性好、含铁量为62％～66％的因瓦合金箔。
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[编辑：沮靖邦]
氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究 氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究：结果与讨论（二） 氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究：结果与讨论（三） 氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究：结果与讨论（四） 氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究：结果与讨论（五） 氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究：结果与讨论（六） 氟硼酸盐体系电沉积因瓦合金箔的工艺研究：结果与讨论（七） |
