氨浓度对电沉积的影响见图l[1]。
图1氨浓度对电沉积的影响。 -○-η％；-口-M0／％(原子) 为了研究氨对电沉积的影响，在柠檬酸钠0.3mol／L溶液中加入氨水，便得到柠檬酸铵和柠檬酸钠与柠檬酸铵的总浓度为0.3mol／L的混合溶液的比值。可见： ①随着柠檬酸铵的浓度的增加，比值增大阴极电流效率降低，镀层中钼含量增加； ②当该比值>0.8时，电流效率几乎为零，不能获得好镀层； ③无氨时，比值=0电流效率很低； ④随着氨浓度增加，比值自0.4增大，阴极电流效率降低至近于0，镀层中钼含量增加至30％。 其原因是在氨性柠檬酸溶液中，尽管镍离子主要以[NiC6H507(NH3)3]形式存在，但放电活性离子袁宝华认为却是[NiC6H507(NH3)2]，所以，氨浓度过大或过小都不利于电活性离子形成，影响镍电沉积，进而影响钼的共沉积，不能获得好镀层。 参考文献 1 曾跃，姚素薇，郭鹤桐．非晶态Ni-M0合金的电沉积．电镀与精饰，1994，16(3)：9～12 |
