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镍钼合金镀液组成及工艺条件的影响:电沉积条件对镀层结构的影响

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-11  浏览次数:1187

   电沉积条件与镀层结构的关系见图1[1]

   试验条件:硫酸镍浓度0.15mol/L,镀层结构与电沉积条件如图1所示。

   ①镀液中Mo(Ⅵ) 浓度<0.1mol/L时,镀层为晶态结构如□所示。

   ②镀液中Mo(VI) 浓度≥0.1mol/L,阴极电流密度>14A/dm2,且预电解时间适当时,镀层为非晶态结构,如○所示。

③当镀液中Mo(VI) 较大而Dk小,不能获得好镀层,如×所示。

参考文献

1 曾跃,姚素薇,郭鹤桐.非晶态Ni-M0合金的电沉积.电镀与精饰,1994,16(3):9~12

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