电沉积条件与镀层结构的关系见图1[1] 试验条件:硫酸镍浓度0.15mol/L,镀层结构与电沉积条件如图1所示。 ①镀液中Mo(Ⅵ) 浓度<0.1mol/L时,镀层为晶态结构如□所示。 ②镀液中Mo(VI) 浓度≥0.1mol/L,阴极电流密度>14A/dm2,且预电解时间适当时,镀层为非晶态结构,如○所示。 ③当镀液中Mo(VI) 较大而Dk小,不能获得好镀层,如×所示。 参考文献 1 曾跃,姚素薇,郭鹤桐.非晶态Ni-M0合金的电沉积.电镀与精饰,1994,16(3):9~12 |
电沉积条件与镀层结构的关系见图1[1] 试验条件:硫酸镍浓度0.15mol/L,镀层结构与电沉积条件如图1所示。 ①镀液中Mo(Ⅵ) 浓度<0.1mol/L时,镀层为晶态结构如□所示。 ②镀液中Mo(VI) 浓度≥0.1mol/L,阴极电流密度>14A/dm2,且预电解时间适当时,镀层为非晶态结构,如○所示。 ③当镀液中Mo(VI) 较大而Dk小,不能获得好镀层,如×所示。 参考文献 1 曾跃,姚素薇,郭鹤桐.非晶态Ni-M0合金的电沉积.电镀与精饰,1994,16(3):9~12 |