电沉积条件与镀层结构的关系见图1[1] 试验条件：硫酸镍浓度0．15mol／L，镀层结构与电沉积条件如图1所示。 ①镀液中Mo(Ⅵ) 浓度<0．1mol／L时，镀层为晶态结构如□所示。 ②镀液中Mo(VI) 浓度≥0．1mol／L，阴极电流密度>14A／dm2，且预电解时间适当时，镀层为非晶态结构，如○所示。 ③当镀液中Mo(VI) 较大而Dk小，不能获得好镀层，如×所示。 参考文献 1 曾跃，姚素薇，郭鹤桐．非晶态Ni-M0合金的电沉积．电镀与精饰，1994，16(3)：9～12 |
发布日期：2012-04-11 浏览次数：1205
电沉积条件与镀层结构的关系见图1[1] 试验条件：硫酸镍浓度0．15mol／L，镀层结构与电沉积条件如图1所示。 ①镀液中Mo(Ⅵ) 浓度<0．1mol／L时，镀层为晶态结构如□所示。 ②镀液中Mo(VI) 浓度≥0．1mol／L，阴极电流密度>14A／dm2，且预电解时间适当时，镀层为非晶态结构，如○所示。 ③当镀液中Mo(VI) 较大而Dk小，不能获得好镀层，如×所示。 参考文献 1 曾跃，姚素薇，郭鹤桐．非晶态Ni-M0合金的电沉积．电镀与精饰，1994，16(3)：9～12 |
