电流密度对电沉积的影响见图1[1]。
图1电流密度对电沉积的影响 -○-η％；-口-M0／％(原子) 由图l可见： ① 在实验电流密度范围内，镀层含钼量几乎与电流密度无关； ② ②在电流密度大于10A／dm2时，阴极电流效率叩基本与电流密度无关； ③在电流密度6～10A／dm2，阴极电流效率基本上随Dk的增加而线性增加； ④在电流密度小于6A／dm2，不能沉积出合金镀层，由于在该区电极电位正于镍钼共沉积电位。 参考文献 1 曾跃，姚素薇，郭鹤桐．非晶态Ni-M0合金的电沉积．电镀与精饰，1994，16(3)：9～12 |
