Ni-M0合金的X射线衍射图见l[1]。
图1电沉积条件与镀层结构的关系。 -○-非晶态；-口-晶态；-×-不良镀层
图2 Ni-M0合金的X射线衍射图 A：78.0 %(原子)Ni，22.O％(原子)M0； B:73.0% (原子)Ni，27.0％(原子)M0； C：70.8％(原子)Ni，39.4％(原子)Mo 由图2可见： ①镀层中钼含量<23％(原子)时镀层为晶态，如曲线A； ②镀层中钼含量<25％(原子)时镀层为非晶态，如曲线B、C； ③镀层中钼含量处在23％～25％(原子)之间为过渡结构。 参考文献 1 曾跃，姚素薇，郭鹤桐．非晶态Ni-M0合金的电沉积．电镀与精饰，1994，16(3)：9～12 |
