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概述:电镀镍铜合金的国外发展概况

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-06  浏览次数:1680

1963年以前,美国勃伦纳(A Brenner)在他的名著《合金电沉积》(Electrodeposition of Alloys[1])一书中第562页对镍铜合金已有介绍[l]。

1921年勃鲁尼(G.Bruni)和阿玛多利(M.Amadori)提出在硫酸镍0.03mol/L、硫酸铜0.03mol/L、酒石酸钾钠0.03mol/L和氨水30mL/L的溶液中室温下电流密度0.5A/dm2的条件下电沉积镍铜合金获得成功[z]。

1959年普利斯考特(B.H.Priscott)使用柠檬酸型镀液:硫酸镍0.15mol/L、硫酸铜0.4mol/L、柠檬酸钠0.26mol/L、氯化钠2g/L,55℃,电流密度2A/dm2下获得镍铜镀层:结晶细致、稍有脆性、不够均匀,但电流效率高[3]。

1957年西尔浮斯特洛尼(P.Silve stroni)和萨托利(G A Sartori)在草酸溶液中[4]:硫酸镍0.04mol/L、硫酸铜0.004mol/L、草酸铵0.42mol/L、草酸0.1mol/L在25℃2A/dm2条件下,电沉积镍铜合金,但草酸盐溶解度极低,镀层为粉末状,难以实用。

 1979年李(A.Y.Lee)、弗尔克(W.L.Falk)和舒万克(A.E.Schwancke)提出美国专利U.S 4167459(1979)在醋酸溶液、醋酸镍0.5mol/L、醋酸铜0.05mol/L、硼酸15.5g/L,pH为5.5,30℃,5A/dm2电沉积镍铜合金。

1936年高尔兹(L N.Goltze)和卡拉莫夫(V.N.Kharlamov)在铵盐溶液中[5]:硫酸镍l.1mol/L,硫酸铜0.08mol/L,硫酸铵

1.2mol/L、氨水80mL/L,50℃,lA/dm2,电沉积镍铜合金,电流效率高,氨水味很浓,镀液中铵离子容易影响镀层组成。

1979年萨达纳(Y.N.Sadana)和凡卡塔查兰(T.K.Venkat-aehalam)提出氨基乙酸溶液嘲:硫酸镍0.36mol/L、硫酸铜0.036mol/L,氨基乙酸30g/L,pH为4.5,25℃,2A/dm2,电沉积镍铜合金。

1930年斯涨特(L.E.Stout)、本去(0.G.Burch)和兰格斯多夫(A.S.Langsdorf)提出氰化物溶液[7]:氰化镍0.1gmol/L,氰化亚铜0.05mol/L,氰化钾lmol/L,30℃,5A/dm2,可得到均匀细致的镍铜合金镀层,但电流效率低,尤其是在镀液中有较高的游离氰化物,不能析出镍。

1942年格纳斯(D.C.Gernes)和蒙梯龙(C.H.Montillon)提出硫代硫酸盐溶液[8]:氯化镍0.17mol/L,氯化亚铜0.1gmol/L,硫代硫酸钠lmol/L,25℃,lA/dm2,可电沉积均匀的镍铜合金镀层,电流效率高,但镀层含有过量的硫、镍可能以硫化物形式存在,镀层非常脆。

1937年客兹柴纳夫斯基(J.Krzyzanowski)和古利维兹(A.Gurewicz)提出硫脲镀液[9]:硫酸镍0.038mol/L,氯化亚铜0.018mol/L,硫脲94g/L,醋酸20g/L,40℃,0.5A/dm2,可沉积得半光亮浅黑色镍铜合金镀层。

1957年拉玛查(T.L.Ramachar)提出焦磷酸镀液[10]:氯化镍0.2mol/L,焦磷酸铜0.025mol/L,焦磷酸钾1.4mol/L,60℃,2A/dm2,可获得比较均匀、细致的镍铜合金镀层,有实际应用价值。

参考文献     

1 Brenner A Electro deposition of Alloys(I).New York:A Cademic Pree,1963.562

2 Bruni G,Amadori Ml l Attie men regin acad.Sci.,lettereeol arti Padova,28(4)181.1912 

  3 Priseott B H.Trans.Inst.Metal Finishin9,1959,36 : 93

4 Silvestroni P.,Sartori G A.Ricerea Sci.,l957,17:1i56

5 GoItze L N,Khardomov V N.Zhur.Prikld.Khim.,l936,9:640

  6 Sadana Y N,Venkataehalam T K.Metal Finishin9,1979,77(8):15

7 Stout L E,Burch O G,Langsdorf A S.Trans.Am Electrochem.Soc l930,

   57:113

8 Gernes D C,Montillon C H.Trans.Electrochem.Soc,1942,81:231

9 J.Krzyzarowski&A.GurewiczI Przemysl.Chem,1937,21:208

10 Ramachar T L.Electroplating&Metal Finishiag,1957,10:391

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