①电流密度与镀层重量的关系。电流密度与镀层重量的关系见图6[2]。
图6 电流密度与镀层重量的关系 由图6可见：不同电流密度下镀层的增重曲线为一反马鞍形。由于铬和镍的电化当量分别为0．18rag／(A·s)和0．304mg／(A·s)，在电流密度为5～10A／dm2时，铬的含量也增加，因铬电化当量比镍小，镀层增重渐减；当Dk超过l0．5A／dmz时，由于铬沉积的电流效率提高，所以曲线呈缓慢上升趋势；Dk继续增加，氢气析出加剧，镀层增重趋于平缓，如Dk=20～25一段。 ②电流密度与镀层含铬量的关系。电流密度与镀层含铬量的 关系见图7[2]。
图7 电流密度与镀层含铬量的关系 由图7可见：随着电流密度增加，镀层含铬量也增加，可沉积出含铬ll.1％的镍铬合金镀层。 ③pH值对镀层含铬量的影响。pH=Cr／OA(质量分数)的关系见图8[2]。
图8 pH-Cr[％(质量分数)]的关系Dk=25A／dm2 由于Cr3+水解较慢，OH-和其他酸根离子进入Cr3+配合物的内界，溶液酸度增加，直至基本稳定才可实验。 由图8表明：提高pH值，铬的含量有所增加，氢的析出减少。pH过高易形成铬的沉淀物夹杂于镀层中而影响外观，较佳的pH值为2.5～3.0。 ④醋酸盐对铬沉积的影响。醋酸根离子对镀层铬量的影响见图9[2]。
图9醋酸根离子对镀层铬量的影响 从图9可见以下几点。 a．电流密度小于10A／dm2时，含与不含醋酸根离子的镀液，镀层铬含量均较低，且相差很小。 b．电流密度大于10A／dm2，随着Dk的升高，含醋酸根离子的镀层铬含量较高。这可能是因为醋酸根离子取代原有Cr3+配体而形成非规则面体的络离子结构，其配体场分裂能较小，更有利于铬的沉积。醋酸根离子对Cr3+的活性络离子的沉积有一定的促进作用。 ⑤极化曲线。不含镍离子的含铬镀液的极化曲线见图10[2]。
图10含铬镀液的极化曲线，v=50mV／s1-含CH3C00-；2-不含CHsC00- 由图10可见：。极化曲线表明，含有醋酸根(CH3C00-)的镀液中，铬的析出电位E正移约20～30mV。这对铬的沉积有一定的促进作用，即醋酸根离子对Cr2+的活性络离子的沉积有一定促进作用。 |
