(1)测试方法 用赫尔槽试验，Ⅰ=1A，pH=3．0，温度60℃，观察试片上杂质对镀层的影响。 (2)BNF镀液杂质离子的赫尔槽试验结果见图l-35E11]，由图可见以下几点。 ①铜杂质0．08g／L时低电流密度区光亮度有所降低；高于0．12g／L，光亮分散能力和光亮度下降。因此，铜杂质含量不得超过0．04g／L。 ②铅杂质0.04g／L会降低光亮电流密度范围，当含量0．08g／L，镀液变浑浊。
③三价铬杂质．0．4g／L时镀液变成墨绿色，镀层光亮度和光亮电流密度范围不降低；继续升高，令降低镀液光亮分散能力；0．6g／L时镀层出现毛刷。 ④六价铬含量少时就会降低光亮电流密度范围，含量达到0．2g／L时镀液带黄色，对镀层外观无影响。 ⑤硝酸根NO-3小于0.16g／L时没有不良影响，超过0.16g／L光亮电流密度范围变窄。 (3)ABSB型镀液中杂质离子的影响 见图2试验条件：250mL赫尔槽，电流5A，温度60℃。 由图2可见：ABSB型镀液抗杂质影响的能力较强。
说明；氰根及六价铬含量高时溶液浑浊。 图2 ABSB型镀液中杂质离子的影响 (4)FN型镀液中杂质离子的影响 见图3，由图可见，FN型镀液抗拒杂质影响的能力较强。
3 FN型镀液中杂质离子的影响 |
