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电镀自焊接三维微电极阵列方法

放大字体  缩小字体发布日期:2012-03-09  浏览次数:1334

专利号(申请号):200810034328.X

公开(公告)号:CN101240435

公开( 公告)日:2008-08-13

申请日:2008-03-06

申请(专利权)人:复旦大学

页 数:6

摘要:

      本发明属于微电极制备技术领域,具体涉及电镀自焊接三维微电极的方法。其步骤是把微电极穿过金属微孔,并固定在插槽中;对微金属孔进行电镀,使金属孔逐渐变小,直到与穿过微金属孔的微电极结合在一起,从而实现了微电极与微金属孔的自焊接。这种焊接方法可以轻松实现金属微电极阵列与微金属孔的立体焊接,效果很好,并且方法简单,成本也较低。

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