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钒化合物稳定剂对锡电沉积过程的影响.pdf

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-19  浏览次数:1242

关 键 词:钒化合物,稳定剂,电沉积,酸性镀锡,西佛碱型光亮剂,电镀

作    者:牛振江 林飞峰 等

概    述:

    研究了Shiff碱型光亮剂的酸性镀锡体系中,钒化合物稳定剂对锡电沉积的电流效率和镀层外观及织构的影响,当稳定剂质量浓度为0.10g/L时,镀层的光亮范围向低电流端扩展,在2.5~5.0A/dm∧2电流密度范围内,电流效率及沉积速度都有所提高,镀导显示β-Sn(101)和(112)晶面的织构,但含钒稳定剂的镀液中得到的镀层,(101)晶面的织构系数降低而(112)晶面的织构系数增加。



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