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关 键 词：全息光刻,透射光栅,软X射线,微电镀,制作工艺 作 者：徐向东 洪义麒 等 概 述： 在简述软X射线的自支撑透射光栅制作工艺的基础上，重点研究支撑结构制作中的紫外光刻和电镀两步工艺，紫外光刻中的菲涅耳衍射会造成光刻胶不能显影到底或起保护作用的光刻胶面积减小，厚度减薄，比较了两个不同电镀条件下的电镀实验结果，结果表明低的温度和电流密度（40℃，1.5mA/cm^2)下的镀膜致密，光滑，应力小，对光栅结构无任何影响，高的温度和电流密度（47℃，5.6mA/cm^2)下的镀膜相对粗糙，应力大，造成光栅线条的扭曲，并拢，甚至拉断光栅线条。 注：本站部分资料需要安装PDF阅读器才能查看，如果你不能浏览文章全文，请检查你是否已安装PDF阅读器！ |
