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具有高激光损伤阈值的光栅分光薄膜.pdf

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-05  浏览次数:1325

关 键 词:激光损伤阈值,光栅,ZrO2薄膜,惯性约束聚变,分光特性,电

作    者:李小丽 沈军 等

概    述:

    为惯性约束聚变(ICF)实验中利用光栅分光特性间接探测激光功率研究,制备具有高激光损伤阈值的光栅分光ZrO2薄膜。采用水热法制备纳米ZrO2溶胶,在80-100℃下,以20m/min速度涂敷制备出厚1-2μm、拆射率为1.57-1.70、表面粗糙度2.3nm、激光损伤阈值为25-30J/cm^2(1ns,1.06μm)的ZrO2薄膜。采用Ar^+激光器双光束干涉曝光技术制备光栅掩膜板,光栅周期为1-2μm,深度70-100nm。通过电镀工艺将光栅结构转移至镍板上,经连续模压,最终制备出光栅分光ZrO2薄膜。分析了光栅周期、模压深度及薄膜折射率等因素对光栅一级衍射效率的影响。制备出的光栅分光ZrO2薄膜有望用于高功率激光测量。


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