环球电镀网
当前位置: 首页 » 电镀技术 » 电镀标准 » 正文

原位电化学法制备纳米尺寸金属光特基势垒研究.pdf

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-03  浏览次数:1460

关 键 词:纳米尺寸,肖特基势垒,原位电化学方法,脉冲电镀,纳米金属点,

作    者:符秀丽 王太宏

概    述:

    介绍了原位电子学方法在半导体表面制备纳米尺寸肖特基势垒的工艺,讨论了其制备原理和实验条件,描述了纳米尺度金属/半导体界面特性,并对这种方法制务的肖特基势垒与传统方法制备的肖特基势垒进行了比较,这种制备肖特基势垒的方法克服了传统制备方法的特点,所形成的金属-半导体界面光滑无缺陷;生成的纳米尺度金属肖特基势垒可用于制备单电子晶体管、单电子存储器等纳米器件。



注:本站部分资料需要安装PDF阅读器才能查看,如果你不能浏览文章全文,请检查你是否已安装PDF阅读器!

网站首页 | 网站地图 | 友情链接 | 网站留言 | RSS订阅 | 豫ICP备16003905号-2