浸镀法 电镀设备简单,操作容易,造价便宜,电镀效率好 耗用金属成本较高,电镀膜厚不均,选择电镀位置误差较大。 全面电镀,构造复杂或结构较差的端子。
遮蔽法 电镀膜厚均匀,选择电镀位置误差较小,电镀效率好,耗用金属成本较低。 电镀设备复杂,操作困难,造价昂贵。 构造简单或结构较佳的端子,扁平料板或端子。 刷镀法 耗用金属成本最少 电镀效率差,电镀膜厚不均(扩散) 凸状端子,点状电镀,小面积电镀。 |
浸镀法 电镀设备简单,操作容易,造价便宜,电镀效率好 耗用金属成本较高,电镀膜厚不均,选择电镀位置误差较大。 全面电镀,构造复杂或结构较差的端子。
遮蔽法 电镀膜厚均匀,选择电镀位置误差较小,电镀效率好,耗用金属成本较低。 电镀设备复杂,操作困难,造价昂贵。 构造简单或结构较佳的端子,扁平料板或端子。 刷镀法 耗用金属成本最少 电镀效率差,电镀膜厚不均(扩散) 凸状端子,点状电镀,小面积电镀。 |