环球电镀网
当前位置: 首页 » 电镀技术 » 电镀专利 » 正文

一种电沉积碘化银半导体薄膜的电化学制备方法

放大字体  缩小字体发布日期:2012-06-20  浏览次数:1295
核心提示:  公开号 101871113  公开日 2010.10.27  申请人 浙江大学  地址 浙江省杭州市西湖区浙大路38号  本发明公开了一种电沉
   公开号 101871113

  公开日 2010.10.27

  申请人 浙江大学

  地址 浙江省杭州市西湖区浙大路38号

  本发明公开了一种电沉积碘化银半导体薄膜的电化学制备方法。包括如下步骤:(1)用丙酮冲洗ITO导电玻璃或硅片2 ~ 3次,再用去离子水将ITO导电玻璃或硅片放在超声波清洗器里清洗,接着将ITO导电玻璃或硅片放在10%的硝酸溶液中活化,最后用去离子水反复冲洗;(2)将0.002 ~ 2.000 mol/L的AgNO3、0.002 ~ 2.000 mol/L的KI、0.002 ~ 2.000 mol/L的乙二胺四乙酸二钠混合,用2 mol/L的HNO3或0.1 mol/L的NaOH溶液调节pH至7 ~ 13,得到电解液;(3)ITO导电玻璃或硅片作工作电极,铂片电极作对电极,饱和甘汞电极作参比电极,电沉积得到碘化银半导体薄膜,相对饱和甘汞电极的电沉积电压为1.1 ~ 2.5 V,电沉积温度25 ~ 80 °C。本发明通过电沉积一步合成具有一定取向和晶形的碘化银,并且设备简单、成本低廉,反应条件要求较低。

网站首页 | 网站地图 | 友情链接 | 网站留言 | RSS订阅 | 豫ICP备16003905号-2