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用于在不可电镀的基底进行无电金属电镀的底漆层制剂

放大字体  缩小字体发布日期:2012-07-06  浏览次数:1048
核心提示:说明了一种在无电电镀过程之前用于不可电镀的基底的涂层制剂。所述涂层制剂包括多功能基单体
   公开号 101743286

  公开日 2010.06.16

  申请人 马来西亚理科大学

  地址 马来西亚槟城

  说明了一种在无电电镀过程之前用于不可电镀的基底的涂层制剂。所述涂层制剂包括多功能基单体、以及二苯甲烷–4,4–二异氰酸酯(MDI)的混合物,所述多功能基单体含有烯丙基、烃基、乙烯基、醚基、酯基、甲基丙烯酸酯基、丙烯酸酯基、邻苯二酸盐基或其组合物,但不包括含有羟基的多功能单体。根据本发明,所述多功能基单体的比例为少于或等于MDI。所述涂层制剂在用于一不可电镀的基底前在一真空室内混合30 min。

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