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超低电阻率的光衰减抗反射涂层结构及其制备方法

放大字体  缩小字体发布日期:2012-07-23  浏览次数:1371
核心提示:一种具有表面保护层的超低电阻率光衰减抗反射涂层结构,包括基材、涂层模块以及组合式保护涂层。
   公开日 20100831

  发明人 CHANG C-C, LIU S-F, KUO P-J

  受让人 Innovation & Infinity Global Corp.

  一种具有表面保护层的超低电阻率光衰减抗反射涂层结构,包括基材、涂层模块以及组合式保护涂层。形成于基材前表面的涂层模块由交替层叠的若干碳化硅复合涂层以及金属涂层所构成。涂层模块之上是组合式保护涂层。批量生产该抗反射涂层结构的工艺非常可靠,在制造半导体、磁头、液晶显示器、阴极射线管、建筑玻璃、触摸屏、滤光器以及塑料网状涂层的日常操作中应用已有20多年的历史。该涂层的反射率低于0.5%,方块电 阻为0.5~ 0.7 Ω,透明度为40% ~ 65%,其表面是一层具有高折射率的保护材料,

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