电阻加热蒸发镀的工艺特点是采用片状或丝状的W、M0、Ta等高熔点金属,做成一定形状的蒸发源,其上装入待蒸发材料,利用大电流通过蒸发源所产生的焦耳热,对蒸发材料进行直接加热蒸发,或者把待蒸发材料放人Al203、Be0等坩埚中进行间接加热蒸发。图9-2为各种形状的电阻蒸发源。 图9-2各种形状的电阻蒸发源 电阻加热蒸发结构较简单,成本低,操作简便,应用普遍。但是要求电阻加热蒸发源材料具有高熔点、低的平衡蒸气压和在蒸发温度下不与膜料发生化学反应或互溶现象。 电阻加热蒸发镀可用来制备Al、Ag、Cd、C0、Ni膜和多种光电膜。 |