电子束蒸镀是利用加速电子轰击镀膜材料，电子的动能转换成热能使镀膜材料加热蒸发，并成膜。电子枪有直射式、环型和e型枪之分。目前用得最广泛的是e型枪，它是由电子轨迹磁偏转2700成“e”字形而得名。图9-4为e型电子枪结构图。这里位于坩埚下面的热阴极发射电子，电子经阴极与阳极间的高压电场加速并聚焦，由磁场使之偏转打到坩埚内镀膜材料上。电子束加热蒸镀的特点是能获得极高的能量密度，最高可达l09w/cm2，加热温度可达3000～6000℃，可以蒸发难熔金属或化合物;被蒸发材料置于水冷的坩埚中，可避免坩埚材料的污染，制备高纯薄膜;另外，由于蒸发物加热面积小，因而热辐射损失减少，热效率高。但结构较复杂，且对较多的化合物，由于电子的轰击有可能分解，故不适合多数化合物的蒸镀。
 图9-4 e型电子枪结构图 电子束蒸镀常用来制备Al、C0、Ni、Fe的合金或氧化物膜，Si02、Zr02膜，抗腐蚀和耐高温氧化膜。 |
