80年代以前硫酸铜(简称酸性铜)之镀铜制程，只出现于装饰光亮镍前的打底用途。85年以后由于PCB所用高温焦磷酸铜之差强人意，才逐渐改采低温之硫酸铜，也才使得此种未被青睐的璞玉浑金终于有了发光的机会。不过其基本配方却也为了因应穿孔的分布力，与提高延性(Elongation或称延伸率)之更佳境界起见，而被改为酸铜比甚高 (10：1)的新式酸性铜了。 时至2001以来，由于水平镀铜的高电流密度需求，以及面对盲孔填平的最新挑战起见，于是其之酸铜比又走回头路而往先前装饰铜的1：1目标逐渐下降。此种装饰酸性铜最大的特点就是“微分布力”(Microthrowing Power)非常好，对于表面刮伤与凹陷等瑕疵很容易予以愈合抹平，于是使得3mil以下小浅盲孔的填实大为受惠。且由于孔长对孔径的纵横比还很低，故被热应力拉断的可能性也不大。然而一旦微盲孔的口径到达6mil以上甚至二阶深盲孔时，其填平机率即大幅降低，此一困难目前尚未克服。 |
