登记号 粤科成登字20020020 登记日期 2002-01-15 成果名称 高纯纳米级ITO复合粉末(铟、锡氧化物复合粉末) 成果状态 已批准项目 完成单位 韶关市凯迪技术开发有限公司 研究人员 研究时间 2000.06 至2001.05 鉴定单位 广东省经济贸易委员会 鉴定日期 2001.05.11 成果应用行业 高新科技领域 学科分类 、 简介 ITO透明导电氧化物(掺锡氧化铟Tin-doped IndiumOxide简称ITO)薄膜材料，具有禁带宽、可见光谱区光透射率高和电阻率低等共同光电特性。ITO材料研究与应用较为广泛、成熟，其中 ，大尺寸、高性能电子溅射靶(ITO靶材)是电子及信息产业不可缺少的材料，它广泛用于电子线 路基板的镀层;硬盘等耐磨镀层;光、电、磁的功能膜层等，如计算机光盘、家庭映碟、笔计本电脑的显示屏、太阳能电池和其它节能产品等。仅可擦写计算机光盘(必将取代软盘)、DVD影碟 两项预计到2000年底就可达20亿张。因此，电子靶材一直是各国优先发展的高新技术材料。我国 攻关计划、863计划、火炬计划、自然科学基金、创新基金等都将其列为重点发展材料，国家发展 计划委员会和国家科技部将其作为电子专用材料列入《当前优先发展的高新技术产业化重点领域指南》，是国家近期产业化的重点，以提升我国的电子信息产业的水平。"多级受控制粉法制备ITO 复合粉"技术是基于反相胶团微乳液技术及胶体化学法的基本原理，自主开发并拥有自主知识产权 (国家专利局已受理"ITO复合粉未制备技术"的发明专利)其相关技术可开发多种金属超细粉未乃 至纳米级材料的产品。 本技术采用多级受控共沉淀法制备ITO复合粉末具有以下几个特点：a. 可以精确控制化学组成;b. 容易添加微量有效成份，制成多种成分的均匀微粉体;c.超细颗粒的 表面活性好;d. 容易控制颗粒的形状和粒径;e. 工业化生产成本核算较低。主要技术经济指标 ：多级受控共沉淀法制备的ITO复合粉末，平均粒径小于30nm,纯度大于99.99%,In2O3：SnO2(重 量比)=90：10，颗粒开貌为球形，且颗粒纯度均匀、流动性好。用此ITO复合粉末制成的透明导 电薄膜，相对密度高达95-98%，光透过率达88-90%，方块电阻小于100，完全满足HTFT显示器件 的应用。产品先后送新加坡UNAXIS公司和北京安泰科技股份公司做压靶试验取得成功。产品和工 艺于2001年5月经过省级鉴定"产品质量达到国际同类产品的先进水平，制备技术居国内先进地位 "并申请了发明专利。 |
