反应蒸镀

反应蒸镀法就是将活性气体导人真空室，使活性气体的原子、分子和蒸发的金属原子、低价化合物分子在基体表面沉积过程中发生反应，形成化合物或高价化合物薄膜。反应蒸镀与蒸发温度、蒸发速率、反应气体的分压强和基片的温度等因素有关。

反应蒸镀主要用于制备化合物薄膜。例如在蒸发Ti时，加入C2H2气体，可获得硬质膜TiC;在蒸发Al时，加入NH3气，可制备AIN薄膜;又如蒸发Sn0-In203混合物制备册透明导电膜时，通常需要导入一定量的02。