中频交流磁控溅射

磁控溅射除了可采用直流和射频电源外，还可以使用中频交流电源。现在一般推荐中频交流磁控溅射电源为40kHz，正弦波形，对称供电，并带有自匹配网络的交流电源。图9—14为德国莱定公司TwinWay溅射系统。

图9.14德国莱定公司Twin May溅射系统

中频磁控溅射常用两个靶，并且两个尺寸大小和外形相同的靶并排配置，故称孪生靶。溅射时两个靶同时供电，两个靶轮流作阳极和阴极，在同半周期互为阳一阴极，这样既抑制了靶面打火，又消除了“阳极消失”的现象。中频双靶磁控溅射尤其适用于制备绝缘膜、化合物膜等。