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物理气相沉积TiN薄膜技术条件

放大字体  缩小字体发布日期:2012-09-03  浏览次数:1141
核心提示:ICS分类: 机械制造>>表面处理和涂覆>>25.220.20表面处理
 

英文名称: Specifications of physical vapour deposition TiN films

中标分类: 综合>>基础标准>>A29材料防护

ICS分类: 机械制造>>表面处理和涂覆>>25.220.20表面处理

发布部门: 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局

发布日期: 2002-03-10

实施日期: 2002-08-01

首发日期: 2002-03-10

复审日期: 2004-10-14

提出单位: 中国机械工业联合会

归口单位: 全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会

主管部门: 中国机械工业联合会

起草单位: 武汉材料保护研究所

起草人: 凌国伟、李健、倪瀚、黄济群

页数: 平装16开, 页数:23, 字数:39千字

出版社: 中国标准出版社

书号: 155066.1-28611

出版日期: 2002-08-01

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