| 金属材料或制件在配比合理的腐蚀剂、氧化剂、添加剂组成的抛光溶液中浸蚀，经发生一系列反应后，表面变得洁净光亮，称为化学抛光。这是由于金属微观表面不均匀的膜或在抛光溶液中形成的黏稠性液膜使金属微观表面溶解的速度不均匀，微观凸出部分的溶解速度大于凹处的溶解速度，从而降低了表面的微观粗糙度，使金属表面显得平整而光亮。 化学抛光机理的研究比较少，有学者认为化学抛光原理与电抛光相似，电抛光理论同样适用于化学抛光。根据这一观点出发，认为金属的抛光是由金属表面的平滑化和光亮化两个不同的过程构成。平滑化是指消除金属表面几何形状的不平整，是依靠抛光过程在金属表面凹凸不平的部位生成黏稠液膜厚度的不同而实现。光亮化则是抑制由于金属基体结晶学上的不平整(即各向异性)而引起的特定结晶面的选择性溶解，它取决于金属表面上的固体膜(氧化膜)的不断生成和溶解。所以也有人称这种说法为双重膜理论。化学抛光具有以下的特点。 ①化学抛光最适合处理大型的各种建筑型材或形状复杂的大型零部件，对于较小的零部件，则可以同时处理很多工件，效率高，抛光处理能力大。 ②化学抛光的设备简单，不需要直流电源和电挂具，可以根据每批所处理的工件数量而设计建造，造价低廉。 ③化学抛光主要用于工件的装饰性加工。 ④抛光过程中有有害气体产生，不利于操作人员的健康及环境保护。 ⑤抛光后，工件表面的粗糙度较大，表面光滑及光亮程度比电抛光的差。 ⑥抛光溶液的消耗量大，寿命短，再生困难。 |
