| 在这个pH值范围内研究过许多化学体系，包括草酸盐，氨基磺酸盐等。在许多情况下，这些体系拥有合适的电流一电位曲线来沉积钯，并可避免氢的共沉积，如果用“非老化”的电镀液进行首次沉积，产生的沉积膜硬度、延展性以及表面外观都很好，但是，这些体系不能承受过度老化。 在研究用于工业使用的电镀工艺时，氢脆不是唯一存在的问题。在这些情况里，配位体系的化学和电化学稳定性也是个主要的问题。而且，由于配位体与盐(例如，PdClz)的反应较慢，故很难设计出简单的补给体系。溶液中配位体的分解和配位体的堆积加剧了氢脆问题和微裂纹。但是，基于氨配位体的钯电解液证明是可行的，它们差不多只能在pH值为5～9范围内使用。 Hedrich和Raub[37，39，40]广泛研究了无机氨添加剂，发现他们非常适合于沉积技术应用的钯膜，如表12—9所示，镀液N和O。图l2—26表明，该体系的还原电位比酸性体系更负。例如，在0.Imol/L PdClz溶液中钯的电位EH为+0.55V，而同浓度钯四氨络合物的电位为+0.22V。在钯的二氨二硝基电解液中，钯盐中钯还原与在氨体系中几乎相同的电势范围内进行。 (1)四胺电解液，“无添加剂”体系。胺络合物在氯化钯溶液中形成，此时有氨离子存在，pH值大于4.5。当pH值等于7.5时，这些络合物全部转化成四方平面络合物。当钯四胺溶液被盐酸酸化时，这个络合物逐步转变成钯二氨络合物，这种络合物在酸性范围内是稳定的。从pH值等于6开始，黄色的Pd(NH3)2C12在0.1mol/L冷溶液中沉淀，pH值为4时沉淀完全。 下面的组成被选择作为电沉积实验的标准电解液。
用NH40H将pH值调至8～10之间。 |
