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微电子装置中的钴化学镀

放大字体  缩小字体发布日期:2012-09-26  浏览次数:1105
核心提示:一种于微电子装置的制造中在金属基的基材上沉积Co或Co合金的化学镀方法和组合物,包括一种Co离子源
 

公开号 101238239

公开日 20080806

申请人 恩索恩公司

地址 美国康涅狄格州

一种于微电子装置的制造中在金属基的基材上沉积Co或Co合金的化学镀方法和组合物,包括一种Co离子源,一种用于将沉积离子在基材上还原成金属的还原剂,及一种肟基化合物稳定剂。

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