公开号 101238239 公开日 20080806 申请人 恩索恩公司 地址 美国康涅狄格州 一种于微电子装置的制造中在金属基的基材上沉积Co或Co合金的化学镀方法和组合物,包括一种Co离子源,一种用于将沉积离子在基材上还原成金属的还原剂,及一种肟基化合物稳定剂。 |
公开号 101238239 公开日 20080806 申请人 恩索恩公司 地址 美国康涅狄格州 一种于微电子装置的制造中在金属基的基材上沉积Co或Co合金的化学镀方法和组合物,包括一种Co离子源,一种用于将沉积离子在基材上还原成金属的还原剂,及一种肟基化合物稳定剂。 |