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一种镁合金铸件无氰电镀铜的方法

放大字体  缩小字体发布日期:2012-10-08  浏览次数:1215
核心提示:本发明解决了现有镁合金无氰镀铜技术存在镀层结合力差、孔隙率高、镀液不稳定的缺点。
 

公开号 101245479

公开日 20080820

申请人 哈尔滨工业大学

地址 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号

本发明解决了现有镁合金无氰镀铜技术存在镀层结合力差、孔隙率高、镀液不稳定的缺点。本发明的方法如下:(1)碱洗;(2)有机酸洗;(3)室温下在镁合金表面活化剂中活化,水洗;(4)浸锌合金;(5)温度20 ~ 50 °C、阴极电流密度0.5 ~ 2.5 A/dm2的条件下,在电镀铜溶液中施镀。本发明既能用于镁合金铸件预镀铜,也能用于电镀铜层加厚。所得铜镀层的外观光亮,结合力良好,孔隙率低,且镀液维护方便。电镀溶液的均镀能力及深镀能力优良,工艺简单。采用本发明方法镀铜后的镁合金铸件的应用范围广,可用于电子产品、汽车及其零配件、船舶和航天航空等领域。

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