公开日 20070206 发明人 NAKAOKA T, SUZUKI A, OTSUKA H, KIMIJIMA H 一种用于芯片软膜构装、等离子显示屏或高频印刷电路板的铜箔,其制备过程如下:辗轧铜箔使其光滑,要求表面积不大于理想光滑表面的1.30倍;在经过光滑处理的铜箔上沉积用作粗化的细小颗粒。其中的颗粒可以是铜,钼合金,由铜与镍、钴、铁、铬中至少一种元素组成的合金颗粒,或由以上合金颗粒与钒、钼、钨中至少一种元素的氧化物组成的混合物。 |
公开日 20070206 发明人 NAKAOKA T, SUZUKI A, OTSUKA H, KIMIJIMA H 一种用于芯片软膜构装、等离子显示屏或高频印刷电路板的铜箔,其制备过程如下:辗轧铜箔使其光滑,要求表面积不大于理想光滑表面的1.30倍;在经过光滑处理的铜箔上沉积用作粗化的细小颗粒。其中的颗粒可以是铜,钼合金,由铜与镍、钴、铁、铬中至少一种元素组成的合金颗粒,或由以上合金颗粒与钒、钼、钨中至少一种元素的氧化物组成的混合物。 |