公开号 101198721 公开日 20080611 申请人 恩伊凯慕凯特股份有限公司 地址 日本东京 本发明提供一种引线接合用的金电镀被膜形成用的无电解金电镀液,其特征是含有氰化金化合物以及草酸和/或其盐,不含有衬底金属析出抑制剂。其中最好含有0.5 ~ 10 g/L氰化金化合物(以金离子浓度计),5 ~ 50 g/L草酸和/或其盐。上述无电解金电镀液中最好含有衬底析出金属的掩蔽剂(最好是乙二胺四乙酸和/或其盐)。 |
公开号 101198721 公开日 20080611 申请人 恩伊凯慕凯特股份有限公司 地址 日本东京 本发明提供一种引线接合用的金电镀被膜形成用的无电解金电镀液,其特征是含有氰化金化合物以及草酸和/或其盐,不含有衬底金属析出抑制剂。其中最好含有0.5 ~ 10 g/L氰化金化合物(以金离子浓度计),5 ~ 50 g/L草酸和/或其盐。上述无电解金电镀液中最好含有衬底析出金属的掩蔽剂(最好是乙二胺四乙酸和/或其盐)。 |