| 1 前言 氰化物镀银以其分散能力好、电流效率高、溶液成分稳定、镀层结晶细致均匀等优点,得到广泛应用。2004年,我厂镀银液出现了一次故障,影响了生产。经过分析,排除了故障,恢复了生产。 2 工艺流程 去油→酸洗→焦磷酸盐镀铜→镀银→浸亮→烘干 3 故障现象故障现象: 镀银层粗糙、发花、不均匀,镀液分散能力差,低电流密度区镀层薄或无镀层,镀层结合力差,镀后零件在80～100℃烘干,有起泡现象。 4 原因分析 造成镀层发花、粗糙及分散能力差可能有以下原因: (1)零件前处理不干净;(2)电镀时电流密度过大;(3)焦磷酸盐镀铜液有故障;(4)氰化物镀银液有故障。 现场分析中我们重复进行电镀操作过程,零件前处理、电镀均严格按照工艺要求进行,仍有故障出现,排除了第一、第二条原因;零件镀铜后再镀镍,故障消失。分析镀铜、镀银溶液,各成分含量均在工艺规范之内,而且镀铜后零件表面镀层均匀,排除了第三条原因,同时结合镀银分散能力差的现象,初步认定问题的症结在镀银液。 从镀银液成分分析显示,其成分含量均在工艺范围内;赫尔槽试验显示:试片整体镀层均匀性差,低电流密度区镀层薄。 种种现象表明,此次故障是由杂质污染造成。 5 故障的排除 5.1 稀释处理 配制部分新溶液,按新、老溶液体积比为1∶3、1∶2、1∶1,分别进行赫尔槽试验,试片没有改观。如继续降低老溶液比例进行实验,即使有改观效果,也没有实际意义,此方案被否定。 5.2 小电流电解处理 取50L溶液,小电流电解处理8h,进行赫尔槽试验,没有明显效果,此方案也被否定。 5.3 吸附处理 取50L镀液,按6mL L的比例加入30%的双氧水(稀释3～5倍加入)后,搅拌30min,静置30min,加入活性炭8g L,搅拌30min后,静置4h过滤,小电流电解处理4h后做赫尔槽试验,试片外观有明显改善,镀层均匀,低电流密度区尤其明显。对镀液成分分析,镀液处理前后,氰化银和氰化钾含量分别减少了3g L和6g L,仍处于工艺范围中限值。 用上述处理好的镀液试镀,镀层均匀细致,分散能力好,Φ6mm、深70mm孔底部镀层厚度达到要求,零件在120℃下保温1h均没有出现起泡现象。 我们按照上述方法对大槽溶液进行处理,经小批量试镀,恢复正常,溶液故障排除。 6 结论 镀银液中的杂质是长期逐步积累造成的。为避免此类故障的再次出现,我们完善了操作规程,重新强调了工艺纪律的执行。(1)加料时,用镀液将材料溶解过滤后加入;(2)工序间清洗必须做到彻底干净;(3)掉入镀槽中的零件必须及时取出;(4)配槽、加料及回收用水必须使用蒸馏水;(5)定期对镀液进行循环过滤,每半年用双氧水和活性炭处理镀液。 镀银液中的杂质是长期逐步积累造成的。为避免此类故障的再次出现,我们完善了操作规程,重新强调了工艺纪律的执行。 |
