开号 101096770 公开日 20080102 申请人 富士通株式会社 地址 日本神奈川县 即使在电镀种子层的阻抗相对较高时也能以均匀的厚度进行电解电镀,因此提高了产品的形成精度以及产品的出产率。在衬底上进行电镀的方法中,绝缘层形成在由电阻制成的衬底上。绝缘层包含导电至衬底的导电部件,电镀种子层形成于绝缘层上。电镀种子层经由导电部件导电至衬底,并且将电镀种子层作为功率供应层,在电镀种子层上形成镀膜。 |
开号 101096770 公开日 20080102 申请人 富士通株式会社 地址 日本神奈川县 即使在电镀种子层的阻抗相对较高时也能以均匀的厚度进行电解电镀,因此提高了产品的形成精度以及产品的出产率。在衬底上进行电镀的方法中,绝缘层形成在由电阻制成的衬底上。绝缘层包含导电至衬底的导电部件,电镀种子层形成于绝缘层上。电镀种子层经由导电部件导电至衬底,并且将电镀种子层作为功率供应层,在电镀种子层上形成镀膜。 |