氟硅酸根离子在镀铬过程中起着与硫酸根离子相类似的作用，除此之外，它还具有某些方面的特点。例如铬层容易钝化，在镀铬过程中因电流中断或进行二次镀铬(不另加其它措施)时，所获得的镀层为乳白而无光泽。但是在有氟硅酸根离子存在下，它具有使铬层表面活化的作用，当电流中断或二次镀铬时，仍能获得光亮的铬层。又如小零件滚镀铬，如果在一般标准镀铬液内进行，就难于获得光亮的铬层，滚镀铬液内通常含有氟硅酸根就是这个道理。 一般采用氟硅酸或氟硅酸钠来提供氟硅酸根离子。 氟硅酸根离子另一特点是能在低温(18～25℃)低电流密度(2～2.5A/d㎡)下获得光亮的铬层。当温度达45℃时，可获得光亮铬层的电流效率为19～21%，而在标准镀铬液中则为13%。 含有氟硅酸根离子的电解液，随着温度上升，其工作范围比含有硫酸根离子的电解液为宽。 氟硅酸根离子的主要缺点是对工件、镀槽、阳极的腐蚀性大，槽液维护要求高。当镀液含有3克/升以上的铁离子时，就会严重影响铬层的光泽与镀液的分散能力，降低工作范围及电流效率。因此若以氟硅酸根离子完全代替硫酸根离子的镀铬电解液，由于上述的缺陷，不能长期很好地生产。而采用氟硅酸根和硫酸根离子配合的镀铬电解液，应用较广。 |
