一、电解抛光 铜及其合金的电解抛光，广泛采用磷酸电解液。其工艺规范列于表2—4—4。 新配制的溶液，应进行通电处理。配方1通电量为5A·h／L，此时溶液中的含铜量为3g／L～5g／L；配方2通电量约为10A·h／L。 表2—4—4铜及其合金也解抛光工艺规范  在使用过程中，溶液的密度和各组分含量将发生变化，应经常测定密度并及时调整。配方2溶液中三价铬的含量(以Cr2O3计算)超过30g／L时，可以在阳极电流密度为l0A／dm2和温度为40℃～50℃下，用大面积阳极通电处理，将三价铬氧化为六价铬。不工作时，应将溶液盖严，以防溶液吸收空气中的水分而被稀释。。 阴极表面的铜粉应经常除去。 二、化学抛光 铜和单相铜合金，可以在磷酸．硝酸．醋酸或硫酸．硝酸．铬酸型溶液中进行化学抛光。其工艺规范列于表2—4—5。 表2—4—5铜及其合金化学抛光工艺规范  在使用过程中，需经常补充硝酸，抛光时如果二氧化氮(黄烟)析出较少，零件表面呈暗红色时，可按配制量的l／3补充硝酸。为防止过量的水带入槽内，零件应干燥后，再行抛光。 |
