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一种化学镀镍液及化学镀镍工艺

放大字体  缩小字体发布日期:2013-08-05  浏览次数:1273
核心提示:专利号:201110206474专利申请人:深圳市精诚达电路有限公司本发明涉及一种挠性印制电路板用化学镀镍液及化学镀镍工艺。本发明的

专利号:201110206474

专利申请人:深圳市精诚达电路有限公司

本发明涉及一种挠性印制电路板用化学镀镍液及化学镀镍工艺。本发明的化学镀镍液,包含以下浓度含量的组分:镍盐,以Ni2+的含量计算为4.5~5.5g/L;还原剂,15~40g/L;络合剂,20~100g/L;稳定剂,0.01~10mg/L;促进剂,0.001~1g/L;低应力添加剂,0.01~10g/L;所述低应力添加剂为萘二磺酸钠、苯磺酸钠、糖精、明胶、丁炔二醇、乙酸、香豆素、甲醛、乙醛的一种或几种。本发明的化学镀镍工艺,化学镀镍液的温度为75-90℃,化学镀镍液的pH值为4.5-5.4,化学镀镍时间为15-30分钟。采用本发明的化学镀镍液及化学镀镍工艺,能有效降低镍层的应力,改善镍层的韧性,使镍层具备良好的弯折性能,满足挠性印制电路板的生产及装配要求,进一步提高了良品率。

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