真空镀膜是在充有空气或惰性气体的真空室内进行气相镀膜的一种技术。目前，真空镀膜这三种主要方法均具有无污染、无氢脆、适用于多种基材、工艺比较简单等很多特点。 由于近二三十年来，电子器件正朝着微小型化、高可靠性和超集成度的方向发展，需要制备各种特殊功能镀层，促进了物理气相镀(简称PVD，亦称真空镀)和化学气相镀(简称CVD，亦称气相镀)的迅速发展和广泛应用。据资料介绍，美国为适应航天工业大部件镀膜的需要，已建成高36m、宽30m的离子镀膜室。 真空镀附着力强，镀层不易脱落;绕射性好，镀层厚度均匀;镀层致密，针孔气泡少;镀前易处理，工艺简单;用料省、无公害。它可用在金属或非金属表面上镀制单质、合金或化合物，已广泛用于机械、航空、航天、电子、轻工和光学等工业部门中制备耐磨、耐蚀、耐热、导电、磁性、光学、装饰、润滑、压电和超导等各种镀层。目前，随着真空镀膜设备的不断完善，大型化和连续化，加之涂料涂装技术的发展，可获得结合力好、耐磨性强、光亮度高的装饰膜层。真空镀已进入工业化生产阶段，成为世界上自20世纪80年代以来争相采用的先进技术之一。 |
