离子镀具有下述主要特点。 1.附着力高 由于离子镀的过程中已电离的惰性气体不断地对镀件进行轰击，也就是指辉光放电所产生的大量高能粒子对基表面吸附的气体和污物进行溅射清洗，而且在整个镀膜过程中随时进行，使离子镀膜层具有良好的附着力，另一方面，在镀膜初期，由于溅射与沉积两种现象共存，在膜基界面形成组分过滤层，也能有效地改善膜层的附着性能。 2.绕射性能好 在离子镀中，由于工件为阴极且带负高压，离子向工件的正反表面及其孔、槽方向运动，凡是电力线分布之处，膜材离子均能到达，覆盖工件的所有表面。 另外，由于膜材是在压强较高(≥1Pa)情况下被电离，气体分子的平均自由程小于源基之间距离，所以离子或分子在到达基片的路程中将和惰性气体分子、电子及蒸气原子之间发生多次碰撞，产生非定向的气体散射，使膜材粒子散射在整个工件的表面上。 3.可镀材质范围广 利用离子镀技术可在金属或非金属表面涂覆不同性能的单一镀层和各种复合镀层，用不同的镀料、不同的放电气体和不同的工艺参数，可获得表面强化的耐磨镀层、表面致密的耐蚀镀层、润滑镀层、各种颜色的装饰镀层与电子学、光学、能源科学所需的特殊功能镀层。 4.沉积速率快 离子镀的沉积速率通常为1~50um/min，而溅射(二极板型)只有0.01~1um/min。它的镀膜过程无废液、无公害，不仅获得一定经济效益而且环保效益明显。 |
