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硫酸系铝的阳极氧化工艺

放大字体  缩小字体发布日期：2012-04-21  浏览次数：1056

   ①通用阳极氧化法

 

硫酸

l80～220g／L

温度

l3--26℃

电压

l3～22V

时间

40min

电流密度

0．8～1．5A／dm2

 

②快速阳极氧化法

 

硫酸

200～220g／L

电流密度

0．8～1．5 A／dm2

硫酸镍

6～8g／L

温度

l3～26℃

电压

l3--22V

时间

l5min

 

③交流阳极氧化法

 

硫酸

l30～150g／L

温度

l3～26℃

电压

l8--28V

时间

40～50min

电流密度

l．5～2．0A／dm2

   

   ④低温阳极氧化法 

 

硫酸

l2g／L

温度

0℃

电压

l0～90V

时间

60min

此法所获膜厚达

150～200pm。

硫酸

200～300g／L

电流密度

0．5～5A／dm2

电压

40～120V

时间

2～2．5h

温度

-8～10℃

  

   膜厚可达250μm，绝缘性能极佳，可耐2000～2500V电压。

 

  获得低温的方法是采用循环水间接冷却法，但是需要较大的地方配置循环冷水槽和冷机，现在已经流行直接冷却法，让热交换管直接与电解液进行热交换，冷媒效率提高的同时，占地也较小。

 

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最新电镀工艺2012年04月21日更新

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