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印制线路板电镀工艺:焦磷酸盐镀铜

放大字体  缩小字体发布日期:2012-04-21  浏览次数:1136

焦磷酸盐镀铜的组成和操作条件如下:

 

焦磷酸铜

80~lO0g/L

光泽剂

0.5mL/L

焦磷酸钾

300~400g/L

阴极电流密度

2~3A/dm2

P比{[P2072-]/[Cu2+]}

7.0~8.0

阳极

无氧铜

正磷酸

90g/L以下

阳极电流密度

l~2A/dm2

pH值

8.4~9.0

温度

55℃

氨水(28%)

2~5mL/L

搅拌

阴极移动或空气搅拌

 

P比是管理焦磷酸盐镀铜的一个重要参数:

 

 

 

另外,正磷酸是焦磷酸水解生成的:

 

P2074-+H20一2HPO42-

 

正磷酸盐超过一定浓度,就会对电镀的质量带来不利影响,而这个反应是不可逆的,因此,当正磷酸盐累积到一定量时,只有用新的镀液置换一部分旧的镀液,甚至完全弃掉旧液而换用新的镀液,这显然是很不经济的做法。另外,聚酰亚胺多层板不能耐受焦磷酸镀液,因此不能适用所有的印制线路板特别是细微线路板的加工。同时,焦磷酸根对铜离子的络合也造成废水处理的困难。因此,当硫酸盐镀铜技术有了新的进步以后,焦磷酸盐镀铜已经逐渐被硫酸盐镀锢取代一.

 

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