导电氧化是电子产品铝构件的常用处理工艺。根据产品不同情况的需要,有无色膜和彩色膜等方法。
(1)无色透明导电氧化
磷酸
22g/L
硼酸
2g/L
铬酐
4g/L
温度
室温
氟化钠
5g/L
时间
l5~60s
膜层的厚度约在0.3~O.5μm,导电性能良好。
(2)彩色导电氧化
30~35℃
lg/L
25~30s
铁氰化钾
0.5g/L
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