首先将赫耳槽试验所得样板上的镀层状况绘图记录或直接保存。绘图记录样板上的镀层状况，可以在图案中用文字说明，也可以用符号表示。常见记录镀层状况的符号如图l所示。绘图记录示例见图2。
图1典型光亮镀镍赫耳槽样板图
图2典型光亮镀镍赫耳槽样板记录图
实际上，赫耳槽阴极的近端和远端电流密度相差很大，高达几十倍至百余倍，所以一次赫耳槽试验，可以看到相当宽阔电流密度范围内镀层状况的不同现象。假如镀液中某一成分的变化，操作条件的改变或进入某种杂质能够引起赫耳槽阴极样板上镀层状况的变化，那么赫耳槽试验就能用来了解这些因素的变化情况以此来查找电镀故障。
除此之外，赫耳槽试验还可用来确定镀液中某些成分的最佳含量，选择适宜的操作条件，确定镀液中添加剂和杂质的含量，预测故障和测定镀液分散能力、深镀能力及整平能力等； |
