镁基储氢合金的电沉积和化学镀制备法

    目前制备镁基储氢合金的主要方法有熔炼法、氢化燃烧合成法、机械化合金法及溅射法等^[4-5]。前3种方法可制备块状或粉末状合金，溅射法可制备合金薄膜。相对于块状储氢合金，储氢合金薄膜化后具有以下优点：(1)吸、放氢性能好；(2)抗粉化性能优良；(3)可相对容易地对薄膜进行表面处理，如表面离子轰击、化学镀等。南开大学陈军等^[6]利用磁控溅射法制得了厚度约为600 nm的Mg-Ni储氢薄膜，此薄膜在150 ℃、3.3 MPa条件下就能可逆地吸、放氢。华南理工大学的研究表明，Mg-Ni储氢薄膜除了具有上述特点外，其内阻也较低(32 mΩ)，有利于氢的扩散^[7]。

电沉积和化学镀技术在镁基储氢合金制备及表面改性中的应用

镁基储氢合金的电沉积和化学镀制备法：电沉积法

镁基储氢合金的电沉积和化学镀制备法：化学镀法

电沉积和化学镀在镁基储氢合金表面改性中的应用：沉积金属元素

电沉积和化学镀在镁基储氢合金表面改性中的应用：沉积Ni基合金

电沉积和化学镀技术在镁基储氢合金制备及表面改性中的应用：结语

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