干法镀目前常用方法有真空蒸镀、阴极溅射和离子镀三种。此三种干法镀性能的比较见表1。 表1三种干法镀性能的比较
这类工艺的共同特点是：操作方便、占地少、效率高、结合力好、膜层均匀且纯度高、无公害和无氢脆等。存在的缺点是：设备价格高，膜层质量还存在着一些问题，但它已成为传统的湿法电镀工艺的竞争对手了。 干法镀的一个关键是设备，我国均能生产这类设备。干法镀的操作随设备不同而异，本节仅介绍三种干法镀的概况，详细请查阅随设备所附操作说明。 |
发布日期：2012-04-24 浏览次数：1162
干法镀目前常用方法有真空蒸镀、阴极溅射和离子镀三种。此三种干法镀性能的比较见表1。 表1三种干法镀性能的比较
这类工艺的共同特点是：操作方便、占地少、效率高、结合力好、膜层均匀且纯度高、无公害和无氢脆等。存在的缺点是：设备价格高，膜层质量还存在着一些问题，但它已成为传统的湿法电镀工艺的竞争对手了。 干法镀的一个关键是设备，我国均能生产这类设备。干法镀的操作随设备不同而异，本节仅介绍三种干法镀的概况，详细请查阅随设备所附操作说明。 |
