6.钨抛光表面质量的表征 通过上述一系列实验,确定了硫酸_甲醇体系中钨电抛光的工艺参数为:硫酸与甲醇的体积比1:7,电压15~24 V,温度15~ 6.1 表面反射率 抛光前表面只能照出模糊的影子,反射率最高为57%;抛光后呈镜面光滑,在2 100~2 200 nm范围内反射率高达99%,如图6所示。电解抛光大大提高了钨表面的光泽度。 6.2 表面形貌 电解抛光前,钨箔经砂纸打磨,表面有明显的划痕,易形成不规则的晶面,可能存在破碎晶粒的变形层;抛光后划痕消失,表面平整光滑,如图7所示。
图6电抛光前后钨箔的反射率 Figure 6 Reflectance of tungsten foil before and after electropolishing
图7钨箔电解抛光前后的扫描电镜照片 Figure 7 SEM images of tungsten foil before and after electropolishing 6.3 表面粗糙度 经过电抛光,钨样品的粗糙度尺Rrms。得到了明显的改善,由抛光前的119 nm下降到12 nm(如图8所示)。 |