硫酸-甲醇体系钨电解抛光的可行性研究：结果与讨论（三）

3.槽电压对表面粗糙度的影响

    槽电压是电解抛光过程中重要的影响因素，直接影响抛光过程的进展。槽电压过小时，阳极表面处于活性溶解阶段，只被侵蚀：槽电压过大时，阳极反应剧烈，导致不均匀溶解，生成腐蚀斑，表面质量下降，且缩短电解液寿命。

    设置硫酸与甲醇的体积比为l：7，搅拌速率10 m／s，温度22 ℃，电解时间90 S，在2～30 V的电压范围内进行电解抛光。实验结果如图3所示，电压与表面粗糙度呈二次指数分布。2～14 V内，电压较低，钨发生活性溶解，其表面呈腐蚀状态，R。随电压的增大而减小，钨表面呈腐蚀或部分光亮。l5～24 V是比较适合的抛光电压范围，此时尺。随电压的增大而缓慢变化，数值分布于二次曲线的拐点附近，金属表面抛光均匀。当电压>25 V时，R。随电压的增大而增大，抛光机制以蚀坑扩展为主。抛光表面在短时内产生大量的密布蚀坑，蚀坑很快扩大并连成一片，使表面发生不均匀溶解，表面光亮，但有麻点或条纹组织生成。因此，15～24V是比较稳定的抛光区。

图3  槽电压对表面粗糙度的影响

Figure 3 Effect of cell voltage on surface roughness

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