硫酸在化学抛光过程中主要的作用是有选择性地溶解制件表面的铝和氧化铝,以提高制件表面和抛光液的活性,以加快抛光速度,并提高制件表面的整平作用。一般硫酸浓度在8%~25%(质量分数)较为合适。
硫酸浓度过低,抛光速度缓慢,易使制件受到点状腐蚀;硫酸浓度过高,会降低抛光质量,并容易使抛光面出现半透明雾状。硫酸在化学抛光时溶解铝和氧化铝的化学反应式如下: |
硫酸在化学抛光过程中主要的作用是有选择性地溶解制件表面的铝和氧化铝,以提高制件表面和抛光液的活性,以加快抛光速度,并提高制件表面的整平作用。一般硫酸浓度在8%~25%(质量分数)较为合适。
硫酸浓度过低,抛光速度缓慢,易使制件受到点状腐蚀;硫酸浓度过高,会降低抛光质量,并容易使抛光面出现半透明雾状。硫酸在化学抛光时溶解铝和氧化铝的化学反应式如下: |