铝锰合金表面直流反应磁控溅射制备氧化铟锡薄膜：结论

结论

溅射功率为210 W，衬底温度120℃，溅射时间20 min时，在AlMn合金上制备的IT0薄膜主要生成In203、InxSnyOz、InAIMn04、MnSn03等物相，薄膜与基体结合良好，薄膜纳米晶粒细小。制备上IT0薄膜后，AlMn合金显微硬度提高，并且具备一定的耐磨损和耐腐蚀能力。

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[编辑：吴定彦]

铝锰合金表面直流反应磁控溅射制备氧化铟锡薄膜：结果与讨论